Науковий Фізико-технологічний центр Міністерства освіти і науки України та Національної академії наук України

Основні наукові напрями:
Фізика низькотемпературної плазми, вакуумно-плазмова техніка та технології, матеріалознавство, нанофізика та нанотехнології.
Основні дослідження та розробки:
Розроблено експериментальний технологічний модуль плазмохімічного та реактивного іонно-плазмового формування наноструктур з характерними розмірами до 50 нанометрів для потреб електроніки.
Синтезовано тонкоплівкові структури на основі органічних напівпровідників і досліджено їх властивості. На основі синтезованих плівок створено напівпровідникові сенсори токсичних газів.
Розроблено методи формування шаруватих плівкових систем, компоненти яких мають фазову діаграму евтектичного типу. Отримано нові дані про евтектичну температуру в системі Sn-Ge в залежності від товщини плівок олова.
Методом вакуумно-дугового осадження синтезовано нові нанокристалічні багатошарові композиційні матеріали (TiN/Mo, Fe-Ti-C, TiN-БрАЖ9-4) для розв’язання трибологічних задач – підвищення зносостійкості, корозійної стійкості, антифрикційності деталей машин. Випробовуваннями доведено, що застосування зазначених захисних покриттів дає можливість підвищити триботехнічні характеристики деталей машин у 2-3 рази.
На основі сполук WSi2, MoSi2, SiC, Al2O3, ZrO2, BN, Si3N4 розроблено плазмохімічну та іонно-плазмову технологію формування термостійких захисних покриттів для хімічного технологічного обладнання високої ступені чистоти. При виготовленні технологічного обладнання, захисні покриття дають можливість вивільнити коштовні матеріали і замінити їх дешевшими.
Створено комплексну систему діагностики та керування процесом іонно-променевого осадження, яка дає можливість оптимізувати параметри технології одержання нанорозмірних нітридних і оксинітридних плівок та наногетероструктур.
Побудована нелінійна багатовимірна теорія електронно-хвильової системи О-типу міліметрового діапазону з комбінованими нерезонансними і резонансними ділянками простору взаємодії.